側寫應用程式需要在 Java 側寫資料收集器之下,選取一或多個分析類型。 資料收集器會指定應該如何收集資料,分析類型會指出要收集哪個資料類型。 過濾器則用來確保視圖只會顯示相關的詳細資料。 如果速度和效率十分重要,使用過濾器會特別有用:資料越少,對系統的影響越低, 收集的速度就越快。
必備條件:應用程式側寫準則的配置可分成下列各節:
分析類型 | 所選的選項 | 可用的視圖 | 應用程式 |
---|---|---|---|
記憶體分析 | N/A | 「記憶體統計值」視圖(套件、類別、方法)、「物件參照」視圖* | 記憶體洩漏分析、識別大量使用記憶體的類別 |
記憶體分析 | 進階 >> 選取「實例層次資訊」勾選框 | 「記憶體統計值」視圖(套件、類別、方法、實例) 「物件參照」視圖* | 記憶體洩漏分析、探索記憶體的回收 |
時間分析 | 顯示執行統計值(壓縮資料) | 執行統計值(套件、類別、方法) 涵蓋面統計 | 檢視方法呼叫 |
時間分析 | 顯示執行統計值(壓縮資料),進階 >> 收集實例層次資訊 | 執行統計值(套件、類別、方法、實例) 涵蓋面統計 | 檢視每個實例的套件、類別及方法統計值,檢視方法的呼叫 |
時間分析 | 顯示執行圖形詳細資料 | 執行統計值(套件、類別、方法)、涵蓋面統計、「執行流程」視圖、「UML2 序列圖」視圖(物件、類別、執行緒) | 識別作用中的執行緒、識別程式執行階段 |
時間分析 | 顯示執行圖形詳細資料,進階 >> 收集實例層次資訊 | 執行統計值(套件、類別、方法、實例)、涵蓋面統計、「物件參照」視圖*、「執行流程」視圖、「UML2 序列圖」視圖(物件、類別、執行緒) | 識別作用中的執行緒、識別程式執行階段 |
程式碼涵蓋面 | N/A | 「涵蓋面統計」(套件、類別、方法) | 檢視程式碼涵蓋面 |
* 附註:對於「物件參照」視圖,您必須呼叫收集物件參照動作來收集物件參照,以便利用「物件參照」視圖檢視側寫資料。 您可從「側寫監視器」視圖的工具列或者在「側寫監視器」視圖的代理程式上按一下滑鼠右鍵呼叫收集物件參照。
您可以強調顯示標示實體,再按一下編輯選項來設定 Java 側寫資料收集器或所選分析類型的側寫選項。
請遵循下列步驟,在 Java 側寫資料收集器上設定側寫選項:
同樣地,您也可以強調顯示標示分析類型的選項,再選取編輯選項來設定它們。
您可以指定專案以及用來側寫階段作業的監視器。 您也可以將側寫資料寫入檔案中。
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