使用 J2EE Request Profiler 顯示序列圖

J2EE Request Profiler 用來收集分散式應用程式的執行資料,它可能會跨越多個程序和主機。

「側寫和日誌記載」視景的「側寫監視器」視圖會顯示各種側寫物件, 如在側寫階段作業期間建立的專案、監視器、主機、程序以及 代理程式。 它是側寫環境的表示法。 因此,在分散式應用程式的情況中,會顯示多重主機、程序和相關物件。 在這些序列圖的瞭解上,「監視器」視圖的適當用法很重要。 它提供對應於分散式應用程式基礎架構的功能既強、又合邏輯的過濾系統。

如果需要「側寫和日誌記載」視景及側寫效能和記憶體的相關資訊,請參閱側寫工具的文件。

附註:產品檢附了 J2EE Request Profiler 範例。 如果需要如何使用它的指示,請參閱它的 README(檔案 > 新建 > 範例 > J2EE Request Profiler > 下一步 > 完成)。

您必須明確啟用 J2EE Request Profiler,才能連接它以及使用它來收集您要側寫之應用程式的資料。 請遵循這些作業:

必備項目:

檢視完整序列圖

請遵循下列步驟:

  1. 從「側寫監視器」視圖的工具列中,按一下重新整理視圖按鈕
  2. 在「側寫監視器」視圖中,選取一個監視器。
  3. 從蹦現功能表中,選取開啟
  4. 之後,再選取互動作業視圖。

選取監視器作為檢視圖解的起始資源可確保會顯示所搜集的整組應用程式資料。

檢視局部序列圖

請遵循下列步驟:

  1. 從「側寫監視器」視圖的工具列中,按一下重新整理視圖按鈕
  2. 在「側寫監視器」視圖中,選取一個程序,或階層中在它之下的任何資源。 
  3. 從蹦現功能表中,選取開啟
  4. 之後,再選取互動作業視圖。

使用層次低於監視器的資源會產生對應於從該特定物件收集的資料之局部圖解。 比方說,從主機開啟任何圖解時,所產生的圖解只會包含所追蹤的應用程式及它在該特定主機上的活動的所有相關執行資料。 對於程序來說也是一樣。

這有別於利用「Java 側寫代理程式」來收集側寫資料時,從「側寫監視器」視圖中的不同資源階層開啟序列圖。 在這個情況下,整個應用程式都是用單一程序來執行,因此,除了開啟的資源層次不同之外,所顯示的序列圖完全相同。 請參閱相關作業。

附註:如果是特定主機中的單一程序,從程序和主機層次顯示的圖解是相同的。

相關作業
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