生成自顶向下映射

在自顶向下映射方法中,根据一个或多个现有企业 bean 生成缺省数据库模式和映射。

在 EJB 2.x 中,您的映射和模式文件构成 EJB 2.x 项目的后端。每个项目可有多个后端文件夹(例如,一个 DB2® 和一个 Oracle 后端)。缺省情况下只使用一个数据库后端,但是,可以按需要定义任意多个数据库后端。所以,EJB 2.x 映射向导中的第一个页面要求您指定是否想要创建新的后端(在这种情况下,您就按如下所述的那样进行操作);或者,可以使用现有后端,如中间会合或自底向上1,在这两种情况中,后端中只存在模式(没有映射文件)。如果先前生成了映射,则您可以选择创建和映射未映射元素或打开映射编辑器以便手工更改。

要使用自顶向下映射方法从现有企业 bean 生成模式和映射:

  1. 在 J2EE 透视图中,右键单击 EJB 项目并选择 EJB 至 RDB 映射 > 生成映射。如果您已打开映射编辑器,则此选项将不可用。
  2. 对于 EJB 2.x 项目,选择是创建新的后端文件夹还是使用现有后端文件夹。如果选择使用现有后端并且如果先前生成了映射,则此时必须选择下列其中一个选项:
    • 创建和映射未映射的元素:如果已对后端或企业 bean 执行更改,并且想要创建新元素并相应地更新映射,则使用此选项。
    • 对所选后端映射打开映射编辑器:使用此选项打开映射编辑器,可以在该编辑器中手工更新映射。
    单击完成以执行该操作并退出向导。
  3. 如果选择创建新的后端文件夹,则单击下一步以继续创建初始的自顶向下映射。
  4. 选择自顶向下,然后单击下一步
  5. 选择“目标数据库”。
  6. 输入“数据库名称”和“模式名”。
  7. 可选: 可以选择下列其中一个或两个复选框:
    • 生成 DDL
    • 添加列以进行冲突检测:对 EJB 2.x CMP bean 使用此选项,以向关系表添加一列。此列用来确定是否已更新记录。有关此冲突检测列的更多信息,参阅有关添加列以进行冲突检测的相关主题。
    • WebSphere 3.x 兼容 - 仅当从 WebSphere® Application Server 3.x 部署迁移时才选择此选项。
  8. 单击完成以创建自顶向下映射,或单击下一步来进一步定义继承。
  9. 如果继承存在,则从列表中选择其它的企业 bean,以便为每个已选择 bean 添加与父表连接的叶表,然后单击完成
EJB 映射工具创建与 CMP bean 及其字段相关的表、列和约束,并创建每个 CMP 字段与列的映射。然后,可以使用映射编辑器来对这些映射进行任何必需的更改。使用关系数据库工具来修改表和列。
相关任务
当生成自顶向下的映射时添加列以进行冲突检测
1 自底向上映射在 WebSphere Application Server Toolkit 或 Rational Web Developer 中不可用。
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